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Hole CD 80 nm (on PETEOS)

300 mm 실리콘 웨이퍼에 CD 80 nm의 Hole 패턴을 제작하는 서비스입니다.
Hole CD 80 nm (on PETEOS) 구조

제작 사양

웨이퍼 규격
300mm
기판
Sub_Si
패턴 규격
Hole, CD 80 nm
패턴 형성막
PETEOS 5,000 Å
공정 적층
Sub_Si / PETEOS 5,000 Å / ACL / SiON / PR

공정 및 장비

단계 공정 진행 장비
01 Laser marking Laser Maker(구입검토 중)
02 FN Cleaning NSM312
03 PETEOS Dep. GEMINI HQ
04 PETEOS Dep. SCR NSM312
05 ACL Dep. CHALLENGER
06 SiON Dep GEMINI HQ
07 SiON Dep SCR. NSM312
08 PR Coating LITHIUS PRO Z Imm
09 Exposure XT1950
10 Develop LITHIUS PRO Z Imm
11 ADI CD Measure GT2000S
12 Ox Etch VIGUS RK5
13 PR Strip KIYO_EXP
14 Ox Etch CLN NSM312
15 ACI CD Measure GT2000S
16 Defect Inspection KLA2900