Pattern
L/S CD 20 nm HAR (on PETEOS)
300mm 실리콘 웨이퍼에 CD 20 nm의 HAR L/S 패턴을 제작하는 서비스입니다.제작 사양
- 웨이퍼 규격
- 300mm
- 기판
- Sub_Si
- 패턴 규격
- L/S, CD 20 nm, HAR
- 패턴 형성막
- LPTEOS 5,000 Å
- 종횡비 조절
- ALD Ox 적용
- 공정 적층
- | Sub_Si / LPTEOS 5,000 Å / ACL / SiON / PR
공정 및 장비
| 단계 | 공정 | 진행 장비 |
|---|---|---|
| 01 | - | - |